俄首台 130nm 光刻机原型完成，量产或待 2029 年
俄罗斯 Zelenograd 纳米技术中心（ZNTC）完成首台可处理 200 毫米晶圆、130nm 制程光刻机的第三阶段研发，原型机正进行内部测试，距离真正用于晶圆厂量产仍有数年。
该机据称由白俄罗斯 Planar 开发、激光器来自 Lassard，单台成本约 730 万美元。分析认为，其用于商业芯片生产最早约在 2029 年。
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俄首台 130nm 光刻机原型完成，量产或待 2029 年
俄罗斯 Zelenograd 纳米技术中心（ZNTC）完成首台可处理 200 毫米晶圆、130nm 制程光刻机的第三阶段研发，原型机正进行内部测试，距离真正用于晶圆厂量产仍有数年。
该机据称由白俄罗斯 Planar 开发、激光器来自 Lassard，单台成本约 730 万美元。分析认为，其用于商业芯片生产最早约在 2029 年。
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